北京冠金利新材料科技有限企业
序言
      溅射作为一个先进薄膜材料制备技术, 含有高速及低温两大特点。它利用离子源产生离子, 在真空中加速聚集成高速离子流, 轰击固体表面, 离子和固体表面原子发生动能交换, 使固体表面原子离开靶材并沉积在基材表面, 从而形成纳米(或微米)薄膜。而被轰击固体是用溅射法沉积薄膜原材料, 称为溅射靶材。钼溅射靶可在各类基材上形成薄膜, 这种溅射膜广泛用作电子部件和电子产品, 如当前广泛应用TFT - LCD ( Thin Film Transitor- Liqu id C rysta l Displays, 薄膜半导体管-液晶显示器)、等离子显示器、无机光发射二极管显示器、场发射显示器、薄膜太阳能电池、传感器、半导体装置以及含有可调谐功函数CMOS(互补金属氧化物半导体)场效应晶体管栅极等 。

      在电子行业中, 钼溅射靶材主要用于平面显示器、薄膜太阳能电池电极和配线材料以及半导体阻挡层材料。这些是基于钼高熔点、高电导率、较低比阻抗、很好耐腐蚀性以及良好环境保护性能。以前, 平面显示器配线材料主要是铬, 但伴随平面显示器大型化和高精度化,  ...