PLD简介[1]
物理成膜方法
物理气相沉积方法
分子束外延成膜
脉冲激光沉积成膜（PLD）
a) 热蒸发和电子束蒸发
b) 溅射沉积
c) 离子成膜方法
PLD简介[1]
脉冲激光沉积成膜（PLD）
1960年，激光首次出现。自此以后，激光受到多方面应用，发展成为强效的工具。激光对物料加工的帮助，效果尤其显著。激光具有许多独特的性质，例如狭窄的频率带宽、相干性以及高能量密度。通常，光束的强度足以汽化最坚硬与最耐热的物料。再加上激光精确、可靠、具备良好的空间分辨能力（这些出色表现，所以得到功能薄膜、物料改造、物料表面加热处理、熔接，及微型图案等工业广泛使用。除此之外，多组分物质能够溶化，并沉积在底物上，形成化学计量薄膜。最后提及的这个激光应用技术，就是所谓的脉冲激光沉积（简称PLD）。
PLD简介[1]