第十章 工艺(gōngyì)集成
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COMS集成电路(jíchéng-diànlù)：典型的双阱CMOS工艺制造的一部分
双极集成电路：标准(biāozhǔn)埋层双极集成电路工艺制造的一部分
集成工艺：外延、氧化、扩散(kuòsàn)、离子注入、气相淀积、光刻腐蚀以及金属化等工艺
CMOS与双极集成电路
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10、 工艺(gōngyì)集成
运用各类工艺技术形成(xíngchéng)电路结构的制造过程，称为集成电路的工艺集成。       集成电路的生产过程实际上是顺次运用不同的工艺技术，最终在硅片上实现所设计的图形和电学结构的过程。
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