光刻胶被称为半导体材料皇冠上的明珠：全球半导体技术持续进步背后是光刻工艺持续迭代驱动的摩尔定律，缩短曝光波长主要是通过在光刻机等核心设备和光刻胶等核心材料的不断进步来实现。光刻胶及其配套化学品占半导体材料产值 12%，行业技术壁垒和客户壁垒高，目前主要被日本、韩国和欧美国家垄断，特别是 ArF 浸润式（28nm 及以下）以及 EUV 等关键节点。