文献：用于高性能结构颜色的全电介质超表面


本文献是由Wenhong Yang, S. Xiao, Q. Song, Yilin Liu, Yunkai Wu, Shuai Wang, Jie Yu和 Jiecai Han, D. Tsai7位学者于2020年发表。


摘要：结构色的实现在大色域、高饱和度、高亮度和高分辨率方面表现出优势。虽然已经开发了大量用于结构颜色的等离子体/介电纳米结构，但以前的方法无法同时满足上述所有标准。在这里，我们利用 Si 超表面来展示结构颜色的一体化解决方案。由于固有的材料损耗，传统的 Si 超表面仅具有宽带反射和 sRGB 的 78% 的小色域。一旦它们与折射率匹配层结合，反射带宽和背景反射都会降低，从而显着提高亮度和色纯度。因此，实验证明的色域已增加到 sRGB 的 181.8%、Adobe RGB 的 135.6% 和 Rec.2020 的 97.2% 左右。同时，硅的高折射率在具有 2 × 2 纳米盘阵列的像素中保留了独特的颜色，从而提供了衍射极限分辨率。在这里，作者通过将硅超表面与折射率匹配层相结合，制造出具有高亮度和大色域结构颜色的超表面。实验证明的色域是 sRGB 的 181.8%、Adobe RGB 的 135.6% 和 Rec.2020 的 97.2%。