磁控溅射真空镀膜机造成不均匀的因素主要有真空状态、磁场、氩气这三个方面。
磁控溅射真空镀膜机的运作就是通过真空
状态下正交磁场使电子轰击氩气形成的氩离子再轰击靶材，靶材离子沉积于工件表面成膜。
真空状态就需要抽气系统来控制的，每个抽
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气口都要同时开动并力度一致，这样就可以控制好抽气的均匀性，如果抽气不均匀，在真空室内的压强就不能均匀了，压强对离子的运动是存在一定的影响的。另外抽气的时间也要控制，太短