第八章 气相沉积技术
8-3 化学气相沉积（CVD）  化学气相沉积是利用气态物质在固体表面发生化学反应，生成固态沉积物过程。化学气相沉积过程能够在常压下进行，也能够在低压下进行。CVD技术是当前取得固态薄膜方法之一。
与物理气相沉积不一样是：化学气相沉积粒子起源于化合物气相分解反应。    在相当高温度下，混合气体与基体表面相互作用，使混合气体中一些成份分解，并在基体上形成一个金属或化合物固态薄膜或镀层。