2024年8月28日 调研咨询机构环洋市场咨询出版的《全球半导体CVD设备用Shower Plate行业总体规模、主要厂商及IPO上市调研报告，2024-2030》只要调研全球半导体CVD设备用Shower Plate总体规模，主要地区规模，主要企业规模和份额，主要产品分类规模，下游主要应用规模以及未来发展前景预测。统计维度包括销量、价格、收入，和市场份额。同时也重点分析全球市场主要厂商（品牌）产品特点、产品规格、价格、销量、销售收入及发展动态。历史数据为2019至2023年，预测数据为2024至2030。

调研机构：Global Info Research电子及半导体研究中心

报告页码：139

Showerhead，中文名称为喷淋头或者叫气体分配盘/匀气盘，是一种广泛应用于半导体制造工艺中的气体分配装置。它主要用于将气体均匀地分配到反应腔中，以确保半导体材料在反应过程中能够与气体均匀接触，提高生产效率和产品质量。

匀气盘位于反应腔室内，为晶圆反应环境提供均匀沉积的气体膜层，是晶圆生产的核心零部件。在晶圆反应过程中，特种工艺气体需要通过匀气盘上成千上万个小孔后均匀沉积在晶圆表面，晶圆不同区域的膜层需保证高度均匀性和一致性。因此，匀气盘除对洁净度、耐腐蚀性有极高要求外，对匀气盘上的小孔孔径一致性、小孔内壁毛刺有严苛要求，如孔径尺寸公差和一致性标准差过大或任一内壁存在毛刺，则会导致沉积膜层厚度不一，进而直接影响设备工艺良率。

本文研究半导体CVD机台用Showerhead，包括常规制程的常规制程的A6061铝合金Showerhead、高温制程的A3003铝合金Showerhead，以及特殊制程的纯镍和不锈钢Showerhead等。

根据本项目团队最新调研，预计2030年全球半导体CVD设备用Shower Plate产值达到254百万美元，2024-2030年期间年复合增长率CAGR为7.1%。

本文研究半导体CVD设备喷淋头/匀气盘（Shower Head）用Shower Plate。匀气盘主要应用在半导体薄膜沉积和刻蚀制程中，工艺气体通过匀气盘上的成千上万个小孔后均匀沉积在晶圆表面，保证晶圆表面膜层的均匀性和一致性。因此，对匀气盘零件上孔径一致性及零件高洁净度有严苛要求，也需定期更换。

根据不同产品类型，半导体CVD设备用Shower Plate细分为：铝合金喷淋头、其他材质

根据半导体CVD设备用Shower Plate不同下游应用，本文重点关注以下领域：PECVD设备、LPCVD设备、ALD设备、MOCVD设备、其他CVD设备

本文重点关注全球范围内半导体CVD设备用Shower Plate主要企业，包括：应用材料、Lam Research、京鼎精密、新鶴股份有限公司、NHK Spring、江苏先锋精密科技股份有限公司、瑞耘科技、沈阳富创精密设备股份有限公司、N2TECH CO., LTD、南通托伦斯半导体设备启东有限公司、江丰电子、慶康科技、Marumae Co., Ltd、TTS Co., Ltd.、Mecaro、苏州航菱微精密组件有限公司、安徽博芯微半导体