浸没光刻液体传送及控制系统研究
信息技术的快速发展促使半导体制造技术逐渐提高，光刻分辨率按照摩尔定律的预言继续减小。通过移相掩膜、光学临近校正和其他分辨率增强技术，光学光刻实现了小于入射光波长特征线宽的制造。
然而光学光刻的极限分辨率约50nm，不能满足未来45nm和32nm节点要求。浸没式光刻在最后一片投影透镜和硅片间的缝隙内注入一种高折射率液体来替代原有的气体介质，增大的介质折射率使分辨率提高，从而可使光学光刻延伸至45nm以下。
浸没液体传送装置是浸没光刻设备中的一个关键组件，用来实现缝隙内液体的平稳注入和回收，同时保证无泄漏和气泡产生。本文的工作就是进行浸没液体传送单元的设计、仿真和实验研究，主要内容如下： 第一章，介绍了集成电路的发展概况和光学光刻技术的原理；概括了具有竞争力的下一代光刻技术，并对比了浸没式光刻的优势；综述了国内外浸没光刻技术的主要研究进展；最后概括了本文研究的重要意义和主要研究内容。
第二章，分析了液体注入过程的物理特性，阐述了计算流体力学自由液面模型的仿真方法，采用二维模型研究了接触角、硅片扫描方向、入口速度和角度对注入过程的影响，最后采用三维模型，研究了 ...