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2012-05-06
这是一个半对数的模型,ls lny c x

我操作的过程如下
1.用view---residual tests---correglogram Q statics  来大概看一下其是否存在自相关
(根据附件1) 模型存在一阶自相关

2.再用view--residual tests---serials  correlation LM test
(得出附件2的图片)   resid(-1) 的p值 小于0.05     因此模型存在一节自相关性

3. 用广义差分法来消除自相关性
ls lny c x ar(1)
(得到附件3)

4.再用偏相关,   LM法来检验
(附件4,5)

我的疑惑是,附件5那里,一般经过广义差分法消除后, resid(-1)的p值都是大于0.05, 是不显著的
而这次 得出的是小于0.05。。。。。
我已经用了一次广义差分法了,那要怎么继续消除下去啊?难不成是 ar ar(1).......

麻烦大家帮忙看一下我操作的步骤是否出错了, 问题出在哪里呢?
谢谢啦~~~~~~~
附件列表
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原图尺寸 63.8 KB

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原图尺寸 69.02 KB

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2012-5-6 21:46:08
本人认为,自相关结构图即Correlogram of Residuals 已显示数据序列是AR(1)过程
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