臭氧在半导体行业中用于消毒、降低冲洗水中的总有机碳 (TOC)、晶圆清洗和抑制二氧化硅 (SiO2) 的形成。臭氧凭借其强大的氧化能力和破坏细菌膜通透性的杀菌能力，已在饮用水杀菌领域应用多年。在半导体行业中，臭氧的杀菌能力可用于工艺用水的消毒，以减少管道中污染物的形成；也可用于冲洗水的消毒，以防止晶圆出现缺陷。

本报告研究臭氧添加超纯水制造装置（Ozonized Water Generator），主要用于半导体、平板显示等领域。

臭氧添加超纯水制造装置 市场调研报告

据QYResearch调研团队最新报告“全球臭氧添加超纯水制造装置市场报告2025-2031”显示，预计2031年全球臭氧添加超纯水制造装置市场规模将达到1亿美元，未来几年年复合增长率CAGR为5.0%。

全球臭氧添加超纯水制造装置市场前10强生产商排名及市场占有率（基于2024年调研数据；目前最新数据以本公司最新调研数据为准）

根据QYResearch头部企业研究中心调研，全球范围内臭氧添加超纯水制造装置生产商主要包括苏州晶拓半导体、住友精密、荏原株式会社、MKS Instruments、Meidensha Corporation等。2024年，全球前四大厂商占有大约68.0%的市场份额。

主要驱动因素:

随着半导体节点的不断缩小和显示技术的不断进步，制造商需要无污染、环保且高效的清洁解决方案。臭氧水具有强氧化性且无化学残留，是理想的解决方案。这已成为主要驱动力，尤其是在晶圆厂向 5 纳米以下节点和高密度 FPD 生产迈进的背景下。

3D 堆叠和晶圆级封装等下一代芯片封装技术需要超精密的表面清洁。臭氧水系统能够去除有机层和颗粒，同时不损坏敏感元件，从而支持这些工艺。

新型系统能够更好地控制臭氧浓度、温度和流速，并进行实时监控，使其更加可靠，更易于集成到自动化生产线中。

主要阻碍因素：

臭氧添加超纯水制造装置，尤其是在半导体和平板显示器制造中使用的臭氧添加超纯水制造装置，需要先进的材料、精密的工程设计，以及与洁净室环境的复杂集成。这会导致巨额的资本支出 (CapEx) 和高昂的维护成本。

这些系统需要精确控制臭氧浓度、流速、温度和纯度。将它们集成到现有生产线需要定制工程、培训以及与超纯水 (UPW) 系统的兼容性检查。这种技术复杂性可能会减缓缺乏工程专业知识的设施的采用速度。

臭氧是一种有毒且易反应的气体，需要严格的安全规程、泄漏检测和通风系统。设施必须符合职业暴露限值，这会增加基础设施和合规成本。

总而言之，臭氧添加超纯水制造装置将在半导体制造中发挥越来越重要的作用。随着技术的不断进步和中国竞争性供应商的日益参与，市场正变得更加活跃，更容易进入。随着半导体行业的发展，对清洁、高效和精确清洁工艺的需求只会日益增长——这使得臭氧添加超纯水制造装置成为下一代半导体生产的关键赋能技术。